過氧化氫濃度計-低濃度
笠原理化 KRK/日本
產品編號：H2O2-V3
產品簡述：
- KRK H2O2 系列，適用於不同過氧化氫濃度檢測
- H2O2-V3 適用於高濃度雙氧水檢測 0~25mg/L
- 一分鐘即可得知待測樣品檢測結果
- 使用吸光光度法，搭配指定KRK試劑使用
- 該系列有三項濃度可選擇 0~25mg/L、0~1200mg/L、0~120g/L
- 適用硫酸銅鍍液、半導體、蝕刻液等的濃度管理
- 適用表面處理、洗淨用水等水質監測與管理
- 適用各類殺菌、漂白、氧化還原等製程檢測
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日本笠原 KRK H2O2 系列
專為過氧化氫(雙氧水)檢測所設計的產品
採用吸光光度法， 搭配指定濃度試劑，即可快速得知待測樣品的濃度。該系列有三項濃度可選擇 0~25mg/L、0~1200mg/L、0~120g/L。
取代傳統滴定的最佳方法
高濃度過氧化氫 H2O2-V1
測定範圍 0~120g/L
- 半導體、印刷電路板、面板、封裝等硫酸銅鍍液、蝕刻液等濃度管理
- 不受硫酸、鹽酸、銅、鎳等濃度影響
- 各類殺菌、漂白、氧化還原等水質檢測
中濃度過氧化氫 H2O2-V2
測定範圍0~1200mg/L
- 半導體、各類表面處理、廠內用水管理
- 廢水雙氧水濃度監測與管理，避免含有雙氧水的水樣影響COD檢測數值
- 各類殺菌、漂白、氧化還原等水質檢測
低濃度過氧化氫 H2O2-V3
測定範圍0~25mg/L
- 半導體、各類表面處理洗淨用水管理
- 各類殺菌、漂白、氧化還原等水質檢測
產品規格
左右尚有資訊| 產品型號 | H2O2-V1 | H2O2-V2 | H2O2-V3 |
| 測定範圍 | 0.0~120g/l | 0~1200mg/l | 0~25mg/l |
| 最小讀值 | 0.1g/l | 1mg/l | 0.01mg/l |
| 測定原理 | 吸光光度法 | ||
| 測定時間 | 1分鐘 | ||
| 使用試劑 | H2O2-V1-RA | H2O2-V2-RA | H2O2-V3-RA |
| 干擾離子 | 氧化劑、磷酸 | ||
| 電源供應 | 4 號鹼性電池 3 顆 (LR03 x 4、DC6V) | ||
產業應用
化學工廠 / 製藥工廠 / 半導體 / 液晶面板製程中的過氧化氫濃度測定，洗淨液 / 稀釋液濃度管理
